2.2.3 CuMo合金薄膜的SEM 分析
图3 和4 所示分别为CuMo沉积态及退火态薄膜的背散射电子(BSE)像。图3(a)为沉积态纯Cu 膜BSE像。与 其相较，图 3(b)~(e)表示Cu100−xMox(x=2.32, 7.84,20.26, 35.15)膜的 BSE 像无明显衬度，无明显聚集的富 Mo 相，薄膜晶粒尺寸小，说明添加 Mo 有显著细晶化效应，且 Cu和Mo以较小尺度均匀混合，与 XRD和TEM分析一致。图 4所示为经650℃热退火1 h后，CuMo膜基体相晶粒长大，其中较明亮的粒子是第二相，粒度为亚微米−微米级，粒度与Mo 含量无明显关系，但 第二相的量却有随Mo含量增加而增多的趋势。EDX 显示，第二相并非富 Mo，而存在 Cu 富集，这可能是由于Cu熔点较低，再 结晶温度也低，在 650℃的温度下发生再结晶生长所致，也可能兼因退火中FCC Cu(Nb)亚稳固溶体发生脱溶，从 而残留富Cu相。
