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    铜及铜合金HN03-HZS04-HCI改型化学抛光工艺

    放大字体  缩小字体 发布日期:2010-08-18
    铜之家讯:铜及铜合金HN03-HZS04-HCI改型化学抛光工艺

      铜及铜合金HN03-HZS04-HCI改型化学抛光工艺

      2.2 HN03-HZS04-HCI改型化学抛光工艺

      用硝酸盐(硝酸钠、硝酸铵等)代替硝酸,可以降低氮氧化物的析出。若再配以适当的添加剂(如N-1光亮剂),则可获得氮氧化物很少的化学抛光液(见表1配方10)。用硝酸盐比用硝酸安全,储运也方便,没有危险性。此外,抛光液的抛光作用比较温和,反复抛光多次也不会出现过腐蚀现象,而且工件离开液面后在空气中停蹈2min也不会产生过腐蚀。因此,特别适宜于机械操作和薄壁管状零件的化学抛光。

      在HN03 -H2 S04 -HC1系列化学抛光液中,除硝酸可用硝酸盐代替外,所用的HCI也可用醋酸、食盐( NaCl)取代。此外,为了防止产生过腐蚀现象,可在体系中加入一些铬酐。

     
     
     
     
     

     

     
     
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