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    铜及铜合金HN03-H3P04-CH3COOH累列化学抛光工艺

    放大字体  缩小字体 发布日期:2010-08-18
    铜之家讯:铜及铜合金HN03-H3P04-CH3COOH累列化学抛光工艺

      铜及铜合金HN03-H3P04-CH3COOH累列化学抛光工艺

      2.3 HN03-H3P04-CH3COOH累列化学抛光工艺

      硝酸一磷酸一醋酸型化学抛光铜及铜含金的典型工艺列于表2中。它是由巴特尔研究所( The Bat-telle Memorial Institute)开发成功的铜与铜合金的化学抛光液。其工艺范围为:30%一80%正磷酸,10%一50%冰醋酸,5%~20%硝酸,0 N10%水。

      对于不同的铜合金,如CL,—Zn以外的Cu-8% Al, Cu-0. 5% Be.Cu-5alo .Al-2ty/o Si等合金,只要在此范围内适当改变比例,均可获得良好的抛光效果。若在硝酸一醋酸体系中加入重铬酸钾和氯化铜(见表2配方13),则可用于蒙乃尔合金(一种高强合金)的抛光。

      若在硝酸一磷酸一醋酸体系中,将1/3量的冰醋酸用硫酸取代,则可用于通常难以抛光的高锡(WS。>5%)青铜(CuSn合金)的化学抛光。

                            硝酸一磷酸一醋酸系列化学抛光铜及其合金工艺

      

     
     
     
     
     

     

     
     
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