第三节 金相试样的抛光
金相试样经磨光后、有细微磨痕以及表面仍有金属的形变扰动层(如图5-7-2，5-7-9所示)，影响正确的显示组织，因而必须抛光。抛光的目的，一方面为抛掉磨面上的痕迹，另一方面为消除磨面上的形变扰动层。抛光的基本方法有机械抛光，化学抛光和电解抛光。目下也有把化学与机械抛光结合在一起，形成化学机械抛光，也有把电解与机械抛光结合在一起，形成电解机械抛光。机械抛光是普遍广泛应用的方法。抛光是金相试样制备过程的最后一道操作，抛光结果的好坏与磨光是密切相联的，抛光前应仔细检查磨面的磨光质量，然后再进行抛光。
