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    多晶铜膜纳米压入蠕变性能

    放大字体  缩小字体 发布日期:2011-02-16
    铜之家讯:  在JGP560V磁控溅射镀膜设备上镀制多晶铜膜,利用纳米压入技术测量了其室温下的蠕变性能。

    多晶铜膜纳米压入蠕变性能

      王 飞, 徐可为

      ( 西安交通大学 金属材料强度国家重点实验室,西安 710049)

      摘 要: 在JGP560V磁控溅射镀膜设备上镀制多晶铜膜,利用纳米压入技术测量了其室温下的蠕变性能。 结果表明: 由于不同加载方式下, 材料加工硬化程度的不同造成了应力指数的差异, 因而, 不同加载方式对测得的铜膜蠕变应力指数有比较大的影响;由于材料在高载荷时在压头下端产生更多的位错, 阻碍了压头的压入, 使蠕变率降低, 因而, 随着保载载荷的升高, 蠕变应力指数变大。









     

     
     
     
     
     

     

     
     
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