硫脲在铜阴极电沉积中的作用

硫脲在铜阴极电沉积中的作用

摘 要: 用电位阶跃法，得出产生光滑铜沉积时硫脲(TU) 的最佳浓度范围为10 mg/L。由电解制样，并对样品进行X射线衍射、SEM测试。结果表明：硫脲的存在使沉积表面颗粒细化，但其浓度大于20 mg/L时会造成“突出”生长，从而显著影响沉积织构及沉积生长类型。X射线光电子能谱(XPS)分析表明，铜沉积中的“硫”主要来自硫脲。