Co/Cu/Co纳米多层膜的铁磁耦合效应
马晓艳， 杨 柏， 毕晓昉， 宫声凯， 徐惠彬
(北京航空航天大学 材料科学与工程学院， 北京 100083)
摘 要: 采用洛仑兹电子显微镜研究了磁控溅射沉积制备的Cu(20nm)/Co/Cu/Co纳米多层膜磁畴结构随铁磁层间耦合效应的变化。 Cu中间层厚度较薄时， 由于铁磁层之间的耦合作用， 纳米多层膜为垂直易磁化， 磁畴为磁泡结构， 磁泡的平均直径随Cu中间层厚度的增加而减小， 多层膜矫顽力呈减小趋势。 当Cu中间层厚度大于3nm时， 铁磁层之间的耦合作用减弱， 纳米多层膜为面内易磁化， 磁泡结构的磁畴消失，全部为具有波纹状的接近180°畴壁的磁畴结构。
