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    Cu基体上抗原子氧侵蚀的Al2O3涂层

    放大字体  缩小字体 发布日期:2011-02-21
    铜之家讯:  在原子氧地面模拟设备中对铜片、 Al2O3涂层试样进行了原子氧暴露实验, 采用XPS、 SEM等分析手段对暴露前后试样表面的物理和化学变化进行了研究。

    Cu基体上抗原子氧侵蚀的Al2O3涂层

      多树旺1, 李美栓1, 钱余海1, 童靖宇2, 孙刚2

      (1. 中国科学院金属研究所 沈阳材料科学国家(联合)实验室,沈阳 110016;

      2. 北京卫星环境工程研究所, 北京 100029)

      摘 要: 在原子氧地面模拟设备中对铜片、 Al2O3涂层试样进行了原子氧暴露实验, 采用XPS、 SEM等分析手段对暴露前后试样表面的物理和化学变化进行了研究。 结果表明: Cu受到原子氧的侵蚀, 质量有少许增加, 表面形貌和电学性能有些变化;Al2O3涂层质量变化很小,对基体提供了良好的保护作用。 XPS分析结果表明Cu表面形成CuO氧化物层。 反应溅射的Al2O3涂层是富Al的, 初始暴露时由于氧化反应而质量有少许增加, 随时间延长, 涂层变得完全符合化学计量。








     
     
     
     
     

     

     
     
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